- 표준연, 반도체 공정 부품 상태 실시간 진단 시스템 개발 [헤럴드경제=구본혁 기자] 한국표준과학연구원(KRISS)은 반도체 플라즈마 공정에 쓰이는 부품의 수명을 실시간으로 진단하는 시스템 개발에 성공했다고 25일 밝혔다. 부품의 부식으로 발생하는 오염 입자를 사전에 방지, 반도체 수율은 물론 공정의 안정성과 비용 효율성도 한층 높일 것으로 기대된다. 플라즈마 공정은 플라즈마 상태로 이온화된 기체를 이용해 반도체 기판의 표면을 정밀하게 가공(식각)하거나 특정 물질을 증착하는 과정이다. 플라즈마 공정에서 반도체 소자의 회로 패턴을 정밀하고 균일하게 구현해야만 설계 단계에서 목표했던 성능을 발휘할 수 있기 때문에 반도체 수율과 직결된 핵심 공정으로 꼽힌다. 플라즈마 공정에서 발생하는 미세 오염 입자는 공정 품질에 치명적인 영향을 미친다. 대부분의 오염 입자는 공정장비(챔버)의 내부 부품들이 플라즈마 환경에 노출돼 부식하면서 발생한다. 이는 공정 중인 웨이퍼 위로 떨어져 불량품을 만들고